3月26日,天科合达发布三款新产品分别是8英寸光波导型碳化硅衬底(另名光学级碳化硅衬底)、12英寸热沉级碳化硅衬底以及液相法P型6英寸衬底。
图 4 8吋光学级衬底、12吋热沉级碳化硅衬底、6吋P型衬底
8英寸光波导型碳化硅衬底。是天科合达针对AR眼镜领域的前沿布局。目前推出的光波导型碳化硅衬底产品厚度为350/500/700μm,透光率>95%(镀增透膜后),折射率为2.7 (450nm波长下),能助力解决传统AR眼镜视场角窄、彩虹纹及散热等难题。针对市场对光波导型碳化硅衬底的需求,公司计划加快推动8英寸产品量产进程,并计划2025年下半年推出12英寸产品。
12英寸热沉级碳化硅衬底。天科合达现已开发出适配8-12英寸晶体长晶炉,成功实现大尺寸晶体的生长。目前,已成功加工出12英寸样片。
液相法P型6英寸衬底。天科合达于2025年初成功生产出首批液相法6英寸P型碳化硅晶体,该晶体结晶质量优异,电阻率低。作为制备N沟道IGBT器件的关键原材料,液相法P型6英寸衬底有望为电力电子领域的大规模应用提供有力支持,助力智能电网与能源互联网建设。
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九峰山实验室成立之初就已超前布局以氮化镓材料为核心的研究,现已全方位从材料、器件到产业应用取得一系列突破性成果。
九峰山实验室科研团队在全球首次实现8英寸硅基氮极性氮化镓(N-polar GaNOI)高电子迁移率材料的制备。该成果将助力射频前端等系统级芯片在频率、效率、集成度等方面越级提升,为下一代通信、自动驾驶、雷达探测、微波能量传输等前沿技术发展提供有力支撑。
九峰山实验室发布国内首个100 nm硅基氮化镓商用工艺设计套(PDK),性能指标达到国内领先、国际一流水平。作为全球第二个、国内首个商用方案,其技术指标可支撑高通量Ku/Ka频段低轨卫星通信,能够满足下一代移动通信、商用卫星通信与航天领域、车联网及工业物联网、手机终端等多领域对高频、高功率、高效率氮化镓器件的需求,推动我国相关领域器件从“进口替代”迈向“技术输出”。
九峰山实验室基于自主研发的氮化镓(GaN)器件,成功构建起动态远距微波无线传能系统,并在20米范围内实现对无人机的动态无线供能示范验证。该技术突破了传统无线充电的距离限制,解决了接收端功率波动与能量转换效率低的难题,为物流、农业、工业4.0、智能家居等领域提供了创新性技术储备,标志着我国在高频高功率无线传能领域的探索迈入新阶段。
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北方华创:发布首款12英寸电镀设备(ECP)Ausip T830以及离子注入机Sirius MC 313
近日,北方华创正式发布公司首款12英寸电镀设备(ECP)Ausip T830和首款离子注入机Sirius MC 313。
首款12英寸电镀设备(ECP)Ausip T830专为硅通孔(TSV)铜填充设计,主要应用于2.5D/3D先进封装领域。该产品标志着北方华创正式进军电镀设备市场,并在先进封装领域构建了包括刻蚀、去胶、PVD、CVD、电镀、PIQ 和清洗设备的完整互连解决方案。
目前北方华创在离子注入设备的束流控制、调束算法、剂量精准控制等关键技术方面取得多项突破,自主开发出具备能量精度高、剂量均匀性好、注入角度控制精度高等特性的高端离子注入设备。
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近日,西湖仪器成功实现12英寸碳化硅衬底激光剥离自动化解决方案,大幅降低损耗,提升加工速度,推进了碳化硅行业的降本增效。
与6英寸和8英寸衬底相比,12英寸衬底材料能够进一步扩大单片晶圆上可用于芯片制造的面积,在同等生产条件下,显著提升产量,降低单位成本。
2024年12月,国内碳化硅头部企业已披露了最新一代12英寸碳化硅衬底,在引领国际发展趋势的同时,也提出了12英寸以上的超大尺寸碳化硅衬底切片需求。
与之相应,西湖仪器以最快速度推出了“超大尺寸碳化硅衬底激光剥离技术”,率先解决了12英寸及更大尺寸的碳化硅衬底“切片”难题。
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青禾晶元发布全球首台C2W&W2W双模式混合键合设备
3月11日,青禾晶元在香港隆重举办新品发布会,全球首台独立研发C2W&W2W双模式混合键合设备SAB 82CWW系列震撼亮相!SAB 82CWW系列设备采用了全球先进的一体化设备架构,将C2W和W2W两种技术路线从“非此即彼”变为“协同进化”,并具备多项技术亮点双模工艺集成、多尺寸兼容、超强芯片处理能力、兼容不同的对准方式、创新的键合方式、高精度、高效率、智能化偏移补偿。
该SAB 82CWW系列混合键合设备在存储器、Micro-LED显示、CMOS图像传感器、光电集成等多个领域展现了广泛的应用前景。
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新凯来发布6大类31款半导体设备新品,五款“名山系列”高端设备震撼全场
被大家称为深圳“国家队”的企业新凯来,首次亮相全球半导体盛会SEMICON China 2025,“新凯来”发布6大类31款新品,覆盖刻蚀产品、扩散产品、薄膜产品以及物理量测、X射线量测、光学量检测6大类。首次公开亮相便以五款“名山系列”高端设备震撼全场,直接剑指半导体制造核心环节的国际垄断格局。
在本次行业盛会上,新凯来集中展示了其最新研发的五大核心半导体设备,包括高精度薄膜沉积设备、先进离子注入系统、新一代涂胶显影设备、化学机械抛光(CMP)系统以及全自动晶圆检测设备,全面覆盖半导体制造的关键工艺环节。这些设备的亮相,标志着中国半导体设备企业已从单点突破迈向系统化布局的新阶段。
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2025年3月17日晚,比亚迪在万众瞩目中举办了超级e平台技术发布暨汉L、唐L预售发布会,会上正式发布了超级e平台,这是全球首个量产的乘用车“全域1000V高压架构”,将电池、电机、电源、空调等全系高压部件都做到了1000V,将新能源汽车带入“油电同速”时代。同时,为了匹配超高功率充电,比亚迪自研并量产了全新一代车规级碳化硅功率芯片,该芯片的电压等级高达1500V,引起了业内的广泛热议。
比亚迪自研的这款碳化硅功率芯片,不仅电压等级高达1500V,而且具有更高的能效和更小的体积。相比传统的硅基功率芯片,碳化硅芯片能够大幅降低能量损耗,提升系统的整体效率。这一技术的突破,对于提升新能源汽车的充电速度和续航里程具有重要意义。
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瞻芯电子正式推出3B封装的2000V 碳化硅(SiC) 4相升压功率模块产品,可应用于光伏等领域,已通过工业级可靠性测试,并在光伏客户导入验证。
图 12 瞻芯电子推出2000V SiC 4相升压模块产品图
瞻芯电子介绍,2000V SiC MOFET和Diode特别适用于1500V 光伏升压电路。在升压变换电路中,2000V SiC分立器件能简化电路拓扑、减少元器件数量,降低总物料成本,同时让应用控制更简单。对比分立器件的方案,若采用2000V SiC功率模块产品,还进一步简化了电路设计,大幅提升了功率密度。
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瞻芯电子推出1200V SiC 半桥1B封装模块,助力高频高效应用
3月11日,瞻芯电子推出1B封装的1200V 9mΩ 碳化硅(SiC)半桥功率模块(IV1B12009HA2L)为光伏、储能和充电桩等应用场景,提供了高效、低成本的解决方案。该产品已通过工业级可靠性测试。该产品适用于高频、高效率功率变换系统,具有安全可靠、尺寸紧凑、安装方便等特点。
该模块产品内置1200V 9mΩ SiC MOSFET芯片组成半桥电路,具有较低的杂散电感,简化了应用电路的设计,相对于分立器件方案,提升了功率密度。同时集成热敏电阻(NTC)以监测温度。该产品具有开尔文源极引脚,能在SiC MOSFET高速开关时,抑制驱动电压尖峰,保障高频开关应用的安全和可靠。
这款模块采用瞻芯电子第二代平面栅1200V SiC MOSFET芯片,兼有良好性能和可靠性表现,支持+15V至+18V开通电压和-3.5V至-2V关断电压,额定电流100A。
图 13 瞻芯电子1200V SiC 半桥1B封装模块产品图
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近日,重庆青山(长安汽车子公司)与重庆大学联合研发的SiC功率芯片首轮流片成功下线。
此次双方联合研发的SiC功率芯片,在耐压和阈值电压等关键参数上均表现出优秀的性能。
器件耐压性能突出,击穿电压最高可达1700V以上;阈值电压一致性表现优异,通过率达到98%,实测值分布集中,具有较强的抗干扰能力,在大批量使用时更易于配对,从而节约成本。
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3月2日,比亚迪、大疆共同发布了智能车载无人机系统——灵鸢,作为全球首款高度集成的车载无人机系统,灵鸢系统具有换电版和快充版两个版本,其中快充版售价为16000元。
值得关注的是,灵鸢系统采用双侧对夹式100W快充模块,采用氮化镓材料将充电效率提升至94%,-30℃低温环境下仍可30分钟补电60%。同时,它还融合了车载无人机定位模块、4K高清车顶摄像头等多个配置,可以帮助用户实现动态起降、随动跟拍、地空双摄等功能,实现“轻松拍大片”。
未来,随着“灵鸢”的发布与普及,预计将会有更多用户体验到这一技术,让智能车载无人机系统,从小众功能逐渐走向大众标配。
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近日,在国内电气检测设备领域,北京博电新力电气股份有限公司(以下简称“博电科技”)取得了一项重大突破。
该公司董事长陈卫近日透露:博电科技自主研发的高性能SiC电网模拟器等产品,成功攻克高开关频率、低功耗、抗过载、软件控制等一系列技术难题,最终研制出最高功率可达MW级成功填补了国内高端检测设备领域的空白,目前已吸引了大量订单。
该产品应用范围极为广泛,不仅在新型电力系统测试中发挥关键作用,还在航空航天、新能源汽车、轨道交通、微电网等多个行业展现出巨大价值。
以应对电网高次谐波为例,这种电流、电压的不规则波动情况,高性能SiC电网模拟器既能精准模拟电网常规的50赫兹需求,也能满足航空航天电气系统特殊的400-800赫兹需求。
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SiC器件开发商SemiQ Inc发布了三款1200V SiC全桥模块,每个模块都集成了两个带有可靠体二极管的坚固耐用的SemiQ高速开关SiC MOSFET。
开发这些模块是为了简化光伏逆变器、储能、电池充电和其他高频直流应用的开发。
模块有18mΩ、38mΩ和77mΩ(RDSon)三种规格,在超过1350V的电压下进行过测试,具有高达102A的连续漏极电流、高达250A的脉冲漏极电流和高达333W的功率耗散。
坚固耐用的B2模块可在高达175℃的结温下工作,具有极低的开关损耗(25℃时EON为0.13mJ,EOFF为0.04mJ——77mΩ模块)、低零栅电压漏极/栅源漏电(0.1µA/1nA——所有模块)和低结壳热阻(每瓦0.4℃——18mΩ模块)。
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新微半导体宣布推出650V E-mode氮化镓功率工艺代工平台
据新微半导体消息,3月10日,新微半导体正式推出650V硅基氮化镓增强型(E-mode)功率工艺代工平台。
该平台基于增强型HEMT结构,实现了导通电阻3mΩ・cm²的行业领先水平,支持500V-800V宽电压应用,适用于快充电源、服务器电源及光伏微型逆变器等场景。目前,新微半导体已与多家消费电子品牌及电源厂商展开合作,其GaN器件产品在65W-240W快充市场的渗透率逐步提高。公司计划在2025年第四季度推出基于该工艺的车规级GaN芯片,瞄准车载DC/DC转换器市场。
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东风、起亚、沃尔沃、尊界、理想和宝马等车企发布7款SiC车型
沃尔沃汽车:ES90采用800v架构
3月5日,沃尔沃官方发布全新纯电动旗舰轿车 ES90,预计今年第四季度启动全球交付。
据悉,ES90作为沃尔沃首款800V高压平台车型,在电动化核心技术上实现多项突破。该车采用碳化硅电驱系统,搭载最大功率为370kW的电机和111kWh麒麟电池包。在CLTC工况下可实现715km续航里程,配合350kW超充桩可实现10%~80%电量仅需18分钟的补能效率。
东风汽车:新SiC车型量产在即
3月1日,东风在广州长隆举办“NI好——最家技术发布会”,首秀中高级纯电轿车N7。据悉,N7量产在即。
据悉,在动力系统方面,N7 搭载东风汽车公司自产的TZ200XS3JD驱动电机,最大功率为200kW,配合800V 碳化硅平台实现充电 10 分钟续航 400 公里的补能效率。
宝马汽车:纯电动BMWi5引入SiC
近日,宝马汽车官方宣布,宝马i5 eDrive35L车型正式登陆中国市场,配备升级后的电池系统,并提供了豪华套装与M运动套装两种版本,官方售价为43.99万元。
据悉,在动力方面,该车依旧为纯电动系统,搭载最大功率为200kW的后置单电机,CLTC工况下纯电续航里程则提升至618km,快充时间则达到了0.55小时。
从2025年3月起,BMW i5 将迎来一次重大升级,该车在电力电子系统中引入了碳化硅半导体(SiC转换器),使其续航里程增加最多47公里。
理想汽车:新SUV采用自研SiC模块
2月25日,理想汽车官方宣布,旗下首款纯电动SUV车型—理想i8,将于今年7月正式面世。
据悉,该车采用了理想汽车自研的SiC功率模块,该模块已于2月13日开始量产。理想 i8 基于 800V 架构打造,采用前 155kW、后 245kW 的驱动电机,综合功率 400kW,具备 5C 超充能力。
起亚汽车:发布新款SiC EV4
2月27日,起亚在 2025 起亚电动汽车日上发布首款电动轿车和掀背车 EV4。海外起售价约为3.5万美元(约25.5万元),起亚 EV4将于 2025 年在全球开始销售,首先于3月份在韩国市场销售。据悉,新款起亚EV4采用 400V 架构,配备前置150 kW 电机,最高时速均为 170 公里/小时。
比亚迪汽车:新SiC车型正式上市
3月5日,比亚迪官方宣布元PLUS智驾版正式上市。该车共推出五个配置版本,售价区间在11.58万-14.58万元。
据悉,在动力方面,该车搭载型号为TZ200XSQ的驱动电机,保持CLTC工况510km续航里程的稳妥配置,150kW永磁同步电机带来7.3秒破百的驾驶体验。2024年5月,比亚迪发布全新SiC车型,售价拉低至18.98万元,其SiC芯片需求大幅提升。同时,还发布全新一代电驱,该电驱采用1200V碳化硅模块。此外,比亚迪旗下的海洋、仰望、方程豹和腾势4大品牌此前推出多款SiC车型,其中包括海洋品牌的海狮07、ocean M、皮卡Shark。
鸿蒙智行:尊界新SiC车型即将上市
2月20日,鸿蒙智行尊界技术发布会在广东省深圳市召开。华为终端BG董事长、智能汽车解决方案BU董事长余承东在发布会上透露,尊界品牌的首款车型尊界S800将搭载以上六大智能化技术,预计于5月底正式上市。
余承东在发布会上透露,尊界品牌的首款车型尊界S800将搭载以上六大智能化技术,预计于5月底正式上市。据悉,尊界 S800 将搭载530kW的双电机和配备 65kWh、6C 的增程电池(从 10%~80%充电只要 10.5分钟),该车纯电续航可达200公里,配合1.5T增程发动机,综合续航能达到860公里。
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芯粤能半导体成功开发第一代碳化硅沟槽MOSFET工艺平台
据长三角国际半导体博览会消息,近期,广东芯粤能半导体有限公司(以下简称“芯粤能”)经过近两年时间的技术研发和测试,已成功开发出第一代碳化硅沟槽MOSFET工艺平台。
该平台采用芯粤能自主知识产权的沟槽MOSFET结构,可显著降低比导通电阻、提高电流密度,并在确保产品可靠性的同时,有效突破平面MOSFET性能提升瓶颈问题,进一步提升芯片性能、大幅降低成本。
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3月18日,安森美官微宣布推出其第一代基于1200V碳化硅(SiC)金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的SPM 31智能功率模块(IPM)系列。
据悉,EliteSiC SPM 31 IPM 与安森美IGBT SPM 31 IPM 产品组合(涵盖15A至35A的低电流)形成互补,提供从40A到70A的多种额定电流。
该模块集成独立高边栅极驱动、低电压集成电路(LVIC)、六颗 SiC MOSFET 及温度传感器,通过优化短路耐受时间(SCWT)与热管理能力,显著降低系统损耗与体积。以数据中心电子换向(EC)风扇为例,相较于传统 IGBT 方案,SPM 31 可将年能耗成本降低 52%,同时支持更高频率的开关速度,满足AI服务器散热系统对高效稳定运行的需求。
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3月12日,纳微半导体宣布其发布了量产级650V双向GaNFast™氮化镓功率芯片及高速隔离型栅极驱动器,导通电阻分别为50 mΩ、100 mΩ,目标市场涵盖电动汽车充电(车载充电机OBC及充电桩)、光伏逆变器、储能系统及电机驱动等领域。
对此,纳微半导体发布的双向GaNFast™氮化镓技术具有两大益处:一是可以将两级整合为单级高频高效架构,彻底消除电容与输入电感,成为电动汽车OBC等场景的终极解决方案。二是采用尖端单芯片设计(单片集成),通过合并漏极结构、双栅极控制及集成专利的有源基板钳位技术,实现双向开关的突破。一颗双向GaNFast™氮化镓功率芯片可替代最多4个传统开关器件,显著提升系统性能,同时减少元件数量、PCB面积和系统成本。
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近日,英飞凌在官网透露,其推出采用全新硅基封装的 CoolGaN™ G3 晶体管,将推动全行业标准化。据悉,过去GaN 供应商对封装类型和尺寸采取了不同的方法,导致碎片化,并且缺乏多个与封装兼容的来源供客户使用。而英飞凌发布的 CoolGaN™ G3 晶体管具有 100 V、80V两种规格,分别采用RQFN 5×6 封装、RQFN 3.3×3.3 封装,典型导通电阻为 1.1 mΩ、2.3 mΩ。新器件与行业标准硅 MOSFET 封装兼容,满足客户对标准化尺寸、更易于操作和更快上市时间的需求。此外,新封装与 GaN 相结合,可提供低电阻连接和低寄生效应,从而在一定面积内实现高性能晶体管输出。由于暴露表面积更大、铜密度更高,热量分布和消散得更好,这种芯片和封装组合在热循环方面具有很高的稳健性,并且提高了热导率。
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近日,德州仪器(TI)宣布推出一系列集成式 GaN 功率级芯片,以满足现代数据中心快速增长的电力需求。据 TI 称,这些产品采用采用TOLL封装,让设计人员能够充分利用 TI GaN 效率,而无需进行昂贵且耗时的重新设计。此外,新的GaN 功率级芯片集成了高性能栅极驱动器和 650V GaN FET,同时实现了高效率(>98%)和高功率密度(>100W/in3)。它们还集成了先进的保护功能,包括过流保护、短路保护和过热保护。这对于服务器电源等 AC/DC 应用尤其重要,因为设计人员面临着在更小空间内提供更大功率的挑战。与此同时,TI 还在 APEC 会议上展示了许多基于 GaN 的电源应用,包括戴尔的 1.8kW 服务器PSU、Vertiv 的 5.5kW 服务器 PSU、长城电源 8kW PSU。
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平湖实验室:沟槽SiC MOS新工艺,无需离子注入
近日,深圳平湖实验室团队发表了一篇题为《SiC沟槽MOSFET的新结构及工艺方法》文章,绍了一种新型沟槽栅SiC MOSFET 器件,以进一步改善沟槽栅SiC MOSFET的比导通电阻,大大节省制造成本。该器件主要有几个特点:一是加入了 p 底部区域来保护沟槽结构底部的栅极氧化层,器件的沟道位于沟槽侧壁的两侧。二是通过利用控制氯化氢 (HCl) 气体流速的沟槽再填充工艺,使得器件制造工艺无需使用离子注入。根据TCAD模拟结果,该器件的p连接层的横向厚度保持在 400Å 以下。所开发的沟槽SiC MOSFET展示了阻断1174V反向偏置电压的能力,而且n型漂移层在p底部区域下方的最小厚度为 7μm。
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3月12日,日本产业技术综合研究所(AIST)与明电舍联合宣布,开发了世界首个内置SiC CMOS驱动电路的SiC功率模块,并开出发相应的电驱系统。
他们将这款模块命名为“SiC CMOS功率模块”,主要有几个亮点:
▲ 导通波形和截止波形的开关速度分别为72V/ns和85V/ns,比当前SiC模块快大约10倍;
▲试验证明,这个开关速度的提升使得SiC模块的开关损耗可以减少大约十分之一。
▲这种驱动方法降低了噪音,有助于提高电机系统的可靠性。
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近日,杭州光机所孵育企业杭州富加镓业科技有限公司(以下简称:富加镓业)在氧化镓MOCVD同质外延薄膜研发方面取得重要技术突破,在富加镓业的氧化镓单晶衬底上同质外延出厚度超过10微米的薄膜,经国家权威检测机构验证,该技术已达到国际领先水平,相关标准化产品将于2025年4月上市,为新能源汽车高压平台、智能电网柔性输电装置等高端装备提供关键材料支撑。
第三方检测机构——中国计量科学研究院的测试结果表明,MOCVD外延薄膜的背景载流子浓度控制低至3.6E15 cm-3,迁移率达到172.7 cm2/V·s。基于MOCVD技术的高质量氧化镓同质外延薄膜的研制成功,未来将助力3300V以上垂直型高压功率电子器件产业快速落地。
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